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Zuvor hatte die Nachrichtenagentur Bloomberg gemeldet, US-Handelsminister Howard Lutnick habe Bedenken geäußert, dass eine EUV-Lithografie-Anlage von ASML unter Verletzung der von den USA geführten Exportbeschränkungen nach China gelangt sein könnte. ASML erklärte, man habe das Geschäft stets an neue Exportkontrollregeln angepasst.
Das niederländische Außenministerium teilte mit, für den Export von Anlagen zur Halbleiterherstellung gebe es klare Regeln. Alle Ausrüstungen, Komponenten und Technologien, die ausdrücklich unter diese Regeln fielen, benötigten eine Lizenz. Diese Politik werde sehr streng durchgesetzt.
Die US-Regierung hatte im April ein Gesetz vorgeschlagen, das von den Verbündeten eine Anpassung an ihre Exportkontrollen verlangt. Damit soll Chinas Fähigkeit zur Herstellung moderner Halbleiter eingeschränkt werden. In dem Gesetzentwurf wurden Anlagen von ASML namentlich genannt. Chinesische Wissenschafter sollen voriges Jahr einen Prototyp einer EUV-Anlage entwickelt haben. An dem Projekt sollen ehemalige ASML-Ingenieure beteiligt gewesen sein.
